施闰霄

东南大学 · 集成电路学院

基本信息

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研究方向

新型存储电路与存内计算新型金属氧化物薄膜晶体管结构(面向电路设计)显示驱动与像素电路柔性可穿戴设备接口电路柔性电源管理电路设计金属氧化物薄膜晶体管尺寸微缩(面向高分辨率显示)高迁移率/高稳定性金属氧化物薄膜晶体管(面向大尺寸高刷显示)

个人简介

施闰霄为东南大学集成电路学院上岗副研究员、副教授,国家ASIC工程中心成员,博士学历。2017年获东南大学电子科学与技术专业学士学位,2018年获早稻田大学情报生产与系统专业硕士学位,2023年获香港科技大学电子及计算机工程专业博士学位,2023-2025年于香港科技大学先进显示与光电子技术国家重点实验室从事博士后研究,2025年起入职东南大学。研究方向聚焦于金属氧化物薄膜晶体管的工艺优化与电路设计,覆盖器件及电路两大领域。以第一作者或通讯作者在Advanced Science、IEEE TCAS系列、IEEE EDL等国际顶级期刊,及IEEE IEDM、IEEE MEMS等顶尖学术会议发表论文10余篇,主持2025年国家自然科学基金青年科学基金项目。每年招收3-4名硕士生及1名博士生,致力于培养专业的TFT器件工程师与TFT电路设计专家。