国洪轩

国洪轩，博士，副研究员。2001年获山东大学学士学位，2001年7月至2003年9月就职于山大鲁能信息科技有限公司，从事光学晶体加工工艺研发工作。2006年获山东大学硕士学位，2009年9月获南京大学博士学位，研究方向为阻变存储器件的设计和制备。博士毕业后先后于日本国立材料研究所（2009年10月-2014年9月）、美国国家标准技术研究院（2014年10月-2019年9月）开展博士后研究工作，研究方向分别为表面分析技术、原位测量技术和器件设计。目前研究领域涵盖原位测量技术、微流道器件设计与制备、材料表面分析技术、阻变存储器件制备技术。研究成果发表于Nano Letters、Scientific Reports、ACS Advanced Materials and Interfaces、Applied Physics Letters等期刊，同时担任Scientific Reports、Applied Physics Letters等期刊审稿人。